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MOS管主要的生產工藝流程：
1.將硅單晶切成大圓片，并加以研磨、拋光。
2.拋光后的片子經仔細清洗后，熱生長一層二氧化硅層。（一次氧化）
3.用光刻技術可除漏、源擴散窗口上的二氧化硅。（一次光刻）
4.進行選擇性的雜質擴散。
5.去處所有二氧化硅，重新生長一層質量良好的柵極二氧化硅層，并進行磷處理。（二次氧化+磷處理）
6.刻除漏、源引線窗口上的二氧化硅。（二次光刻）
7.在真空系統中蒸發鋁。（鋁蒸發）
8.反刻電極。
9.進行合金。
10.檢出性能良好的管芯，燒焊在管座上，鍵合引線。
11.監察質量（中測）
12.封上管帽，噴漆。
13.總測。
14.打印，包裝。
以上是概括MOS管的生產工藝流程，具體操作起來都是非常復雜，且是耗時耗力的過程。
如下圖是其中一款MOS管結構圖
